應(yīng)用范圍
本霍爾離子源用于真空鍍膜過程中基底離子轟擊清潔及沉積過程中離子轟擊能量輸送。廣泛應(yīng)用于:增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學(xué)、高反鏡、熱/冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器、在線清洗等。能夠改善薄膜的生長，優(yōu)化薄膜結(jié)構(gòu)，增加鍍膜的一致性和重復(fù)性，低溫高速率鍍膜，清除工件表面水和碳?xì)浠衔?，增加薄膜密度，清除結(jié)合力弱的分子，反應(yīng)氣體活度增加，薄膜成分易于控制。
產(chǎn)品特點(diǎn)
霍爾等離子體離子源，適合輔助鍍膜工藝要求，其突出的特點(diǎn)是小型化、結(jié)構(gòu)緊湊、易于拆裝。在制造高質(zhì)量的光學(xué)薄膜時(shí)它對改進(jìn)膜的附著力、致密度、吸收度、折射率有所貢獻(xiàn)。JK-530N型霍爾離子源直徑$16.2cm，采用永久磁鐵并利用極靴，沿軸向產(chǎn)生較大梯度的磁場，在環(huán)狀的霍爾電流作用下，離子沿軸向加速形成離子束。離子?xùn)|具有較大的能散度及較大的發(fā)散角，水冷陽極可有效降低離子源及工件表面的溫度。該離子源電源結(jié)構(gòu)簡單，可以實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜所需要的大均勻區(qū)的離子?xùn)|流。單臺(tái)離子源就可以滿足600mm-1600mm鍍膜機(jī)的離子束輔助鍍膜需要。
